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核工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)與專利

核工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)與專利

定  價:50 元

        

  • 作者:中核戰(zhàn)略規(guī)劃研究總院著
  • 出版時間:2023/12/1
  • ISBN:9787522131900
  • 出 版 社:中國原子能出版社
  • 中圖法分類:F426.23 
  • 頁碼:221頁
  • 紙張:
  • 版次:1
  • 開本:24cm
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本書簡述了涉及核工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、專利、標(biāo)準(zhǔn)必要專利等基礎(chǔ)知識,標(biāo)準(zhǔn)與專利融合的作用、國內(nèi)外發(fā)展情況以及相關(guān)融合案例,梳理了核工業(yè)相關(guān)的國際標(biāo)準(zhǔn)組織和國內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)組織及其專利政策和要求,概述和分析了核工業(yè)的各類標(biāo)準(zhǔn)和專利的現(xiàn)狀及其發(fā)展趨勢;提出了開展標(biāo)準(zhǔn)與專利融合的建議,以及開展標(biāo)準(zhǔn)與專利融合第三方服務(wù)機構(gòu)的建議等。
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