根據(jù)2009年教育部高等學(xué)校電子信息科學(xué)與電氣信息類基礎(chǔ)課程教學(xué)指導(dǎo)分委員會修訂的“電路分析基礎(chǔ)課程教學(xué)基本要求”、2011年教育部高等學(xué)校電子電氣基礎(chǔ)課程教學(xué)指導(dǎo)分委員會修訂的“電工學(xué)課程教學(xué)基本要求”，及新世紀創(chuàng)新型人才需要，編寫了這本電路實踐及仿真教材。 《電路實驗實訓(xùn)及仿真教程》內(nèi)容分為5章，第1章為電路實驗

《低功耗CMOS逐次逼近型模數(shù)轉(zhuǎn)換器》系統(tǒng)介紹了低功耗CMOS逐次逼近型模數(shù)轉(zhuǎn)換器設(shè)計所涉及的一些關(guān)鍵問題，包括體系結(jié)構(gòu)、高層次模型、電容開關(guān)時序、關(guān)鍵電路技術(shù)、低壓模擬電路、電容陣列布局等，同時介紹當(dāng)前**的流水線SARA/D轉(zhuǎn)換設(shè)計技術(shù)和可配置A/D轉(zhuǎn)換器設(shè)計技術(shù)，是當(dāng)前國外低功耗CMOS混合信號集成電路的前沿研究

本書內(nèi)容包括：項目簡介；手機防盜模塊；通訊衛(wèi)士模塊；軟件管家模塊；手機殺毒模塊；緩存清理模塊；進程管理模塊；流量統(tǒng)計模塊；高級工具模塊；設(shè)置中心模塊。

本書以項目為導(dǎo)向，以不同類型的小電子產(chǎn)品為載體，采用任務(wù)驅(qū)動的方式，依次通過六管超外差收音機、MF47指針萬用表、貼片八路搶答器介紹了電子產(chǎn)品的基礎(chǔ)知識，并通過貼片收音機、黑白小電視機的項目進行實戰(zhàn)訓(xùn)練。

《光電顯示原理及系統(tǒng)/高等學(xué)校電子信息類專業(yè)系列教材》對光電顯示領(lǐng)域的主要顯示技術(shù)的顯示原理、器件結(jié)構(gòu)、制造工藝以及驅(qū)動技術(shù)做了全面的介紹。鑒于液晶顯示技術(shù)在光電顯示領(lǐng)域中的絕對統(tǒng)治地位，全書用了近一半的篇幅深入全面講述了液晶顯示器(LCD)的材料、工藝和驅(qū)動技術(shù)。 全書共13章，第1章是光電顯示的視覺基礎(chǔ)，對所有光

《數(shù)字信號處理實驗教程（第2版）/21世紀高等學(xué)校電子信息工程規(guī)劃教材》針對工程應(yīng)用型本科專業(yè)的實驗教學(xué)特點，注重數(shù)字信號處理的基本理論、基本算法的MATLAB實現(xiàn)，倡導(dǎo)有條件的雙語教學(xué)、踐行個性化的分層教學(xué)新理念。通過典型的實例MATLAB程序幫助讀者理解和掌握基礎(chǔ)理論的基本應(yīng)用，激發(fā)學(xué)生的自主學(xué)習(xí)興趣。 本書第一

本書分為兩部分，第一部分是課程的學(xué)習(xí)指導(dǎo)，根據(jù)鮑可進主編的《數(shù)字邏輯電路設(shè)計》（第二版）教材的內(nèi)容，主要從課程的要點指導(dǎo)、例題精講、習(xí)題答案3個方面對每一章的重點內(nèi)容進行概括和總結(jié)，方便學(xué)生學(xué)習(xí)；第二部分是實驗教程，主要介紹數(shù)字邏輯電路設(shè)計課程實驗涉及的相關(guān)內(nèi)容，如EDA技術(shù)的基本概念、開發(fā)方法，QuartusⅡ開發(fā)工

本書系統(tǒng)地介紹了信號與系統(tǒng)的基本概念、基本理論和基本分析方法。全書共8章，內(nèi)容包括：信號與系統(tǒng)的基本概念；連續(xù)時間系統(tǒng)的時域分析；連續(xù)時間信號的頻域分析；連續(xù)時間系統(tǒng)的頻域分析；連續(xù)時間信號與系統(tǒng)的復(fù)頻域分析；離散時間信號與系統(tǒng)的時域分析；離散時間信號與系統(tǒng)的z域分析；系統(tǒng)的狀態(tài)變量分析等。本書采用數(shù)學(xué)概念與物理概念并

本書第1版是機械工業(yè)出版社1997年開始組織編寫的，自2000年出版及2009年第2版修訂以來，得到了很多學(xué)校師生的認可，被許多高職院校選為教材，得到了廣大師生的關(guān)心，也積累了一些有價值的反饋意見。根據(jù)高等職業(yè)教育的發(fā)展和電子技術(shù)的發(fā)展，我們在第2版的基礎(chǔ)上再次進行了修訂，繼續(xù)貫徹理論與應(yīng)用相結(jié)合的原則，刪除了部分較為

本教材簡要介紹了半導(dǎo)體器件基本結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體器件工藝的發(fā)展歷史、半導(dǎo)體材料基本性質(zhì)及半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品，以典型的CMOS管的制造實例為基礎(chǔ)介紹了集成電路的制造過程及制造過程中對環(huán)境的要求及污染的控制。重點介紹了包括清洗、氧化、化學(xué)氣相淀積、金屬化、光刻、刻蝕、摻雜、平坦化幾大集成電路制造工藝的工藝原理工藝過程，工藝